[发明专利]处理装置及成膜方法有效

专利信息
申请号: 201110168440.4 申请日: 2011-06-17
公开(公告)号: CN102286731A 公开(公告)日: 2011-12-21
发明(设计)人: 和村有;两角友一朗;佐藤泉;浅利伸二 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种处理装置及成膜方法。本发明的处理装置用于对多张被处理体实施规定的处理,包括:处理容器构造,其具有处理容器,在处理空间的一侧设置有喷嘴容纳区域,并且在另一侧形成有排气口,该排气口用于排出由喷嘴容纳区域沿水平方向放出的气体;盖部,其用于堵塞处理容器构造的下端的开口部侧;支承体构造,其用于支承被处理体,并且能够插入到处理容器构造内或从处理容器构造内拔出;气体导入部件,其具有被容纳于喷嘴容纳区域内并用于导入气体的气体喷嘴;排气部件,其具有用于排出处理容器构造内的气氛气体的多个排气系统;加热部件,其用于加热被处理体;控制部件,其用于控制整个装置。
搜索关键词: 处理 装置 方法
【主权项】:
一种处理装置,其用于对多张被处理体实施规定的处理,该处理装置包括:处理容器构造,其在下端设置有开口部,该处理容器构造具有处理容器,该处理容器在内部具有用于容纳上述被处理体的处理空间,在上述处理空间的一侧设置有喷嘴容纳区域,在与上述喷嘴容纳区域相反的一侧设置有狭缝状的排气口;盖部,其用于堵塞上述处理容器构造的下端的上述开口部;支承体构造,其用于支承上述多张被处理体,并且能够插入到上述处理容器构造内或从上述处理容器构造内拔出;气体导入部件,其具有被容纳于上述喷嘴容纳区域内的气体喷嘴;排气部件,其具有用于排出上述处理容器构造内的气氛气体的多个排气系统;加热部件,其用于加热上述被处理体;控制部件,其用于控制上述气体导入部件、上述排气部件及上述加热部件。
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