[发明专利]光学浮雕幻影釉面砖的制备方法及其中间产物无效
申请号: | 201110168603.9 | 申请日: | 2011-06-21 |
公开(公告)号: | CN102351573A | 公开(公告)日: | 2012-02-15 |
发明(设计)人: | 余国明;李少平;王贵生 | 申请(专利权)人: | 广东宏陶陶瓷有限公司;广东宏威陶瓷实业有限公司 |
主分类号: | C04B41/89 | 分类号: | C04B41/89;C04B41/86 |
代理公司: | 北京中北知识产权代理有限公司 11253 | 代理人: | 段秋玲 |
地址: | 528051 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种光学浮雕幻影釉面砖的制备方法,其包括以下步骤:A.特殊基础釉粉的制备:B.特殊花釉釉料的制备:C.特殊花釉印釉的制备:D.特殊花釉印花:E.产品烧成制度。通过优化特殊基础釉粉、特殊花釉釉料、印油以及特殊花釉印釉的组成、烧成工艺等,采用优化设计的专用胶辊或优化丝网目数的印花丝网版,将该特殊花釉印制在施了底釉、面釉和普通花釉的坯体上,并经高温烧成使特殊花釉图案沉入普通的面釉和花釉中,得到的产品从正面看不到特殊花釉的图案,但从侧面能够清楚的看出具有浮雕幻影效果的精美图案,从而达到似梦似幻的幻影效果,特殊花釉透明性能良好,没有破坏原有的装饰图案,突破了目前釉面砖装饰风格单一的不足。 | ||
搜索关键词: | 光学 浮雕 幻影 釉面砖 制备 方法 及其 中间 产物 | ||
【主权项】:
一种光学浮雕幻影釉面砖的制备方法,其特征在于:其包括以下步骤:A.特殊基础釉粉的制备:a.熔块的制备:钾长石粉:26‑34份、碳酸钙:15‑23份、硼酸:2‑8份、石英粉:24‑32份、硝酸钾:1‑6份、氧化锌:2‑7份、铅丹:0.5‑4份、锂瓷石:1‑7份;将上述原料按重量份混合均匀,在熔块炉内于1480‑1540℃下熔制,水淬成透明的玻璃体,烘干备用;b.釉粉的制备:将步骤a制成的熔块100份外加1‑5份高岭土、0.05‑0.25份甲基、0.15‑0.45份三聚磷酸钠与37‑50份的水磨成细度为325目筛,筛余为0.1%‑0.5%的釉浆,烘干打粉,得到特殊基础釉粉;B.特殊花釉釉料的制备:步骤A中制备得到的特殊基础釉粉100份,与氧化锌0.5‑8份、碳酸锶0.2‑6份、硅酸锆0.2‑6份、氧化锡0.2‑4份、氧化铈0.2‑4份混合,得到特殊花釉釉料;C.特殊花釉印釉的制备:a.专用印油的配置:专用印油包括以下组份:乙二醇:10‑30份、甘油:15‑35份、甲基:0.5‑6.5份、二乙醇胺:10‑30份、植物油:8‑25份、水:5‑25份、高分子聚合物0.5‑6.5份;b.步骤B中制备得到的特殊花釉釉料与适量专用印油混合,经球磨制备得到适合专用胶辊或优化了目数的丝网版印刷的特殊花釉印釉;D.特殊花釉印花:在正常施了底、面釉和用胶辊或丝网版印刷好普通花釉的砖坯上,通过专用胶辊或优化了目数的丝网版将步骤C得到的特殊花釉印釉根据设计的图案印在普通花釉上,且胶辊与丝网版式可交替印刷;E.产品的烧成工艺:将步骤D得到的产品在1080‑1250℃,保温3‑8分钟,再降至1070‑1230℃,再保温3‑8分钟。
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