[发明专利]基于多周期标记的对准方法及装置有效
| 申请号： | 201110168704.6 | 申请日： | 2011-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN102841515A | 公开（公告）日： | 2012-12-26 |
| 发明（设计）人： | 韩悦 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于多周期标记的对准方法，包括：利用多波长对准光源照射所述多周期标记以获得各级次波形相位，对所述多各级次波形相位按照硅片与标记的旋转值与标记的周期及扫描的方向进行校正，以修正因标记旋转或者硅片旋转导致的各级次波形相位失真的情况，利用校正后的各级次波形完成对准。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 周期 标记 对准 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种基于多周期标记的对准方法，其特征在于：利用多波长对准光源照射所述多周期标记以获得各级次波形相位，对所述多各级次波形相位按照硅片与标记的旋转值与标记的周期及扫描的方向进行校正，利用校正后的各级次波形完成对准。
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