[发明专利]显示器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201110170657.9 申请日: 2006-11-16
公开(公告)号: CN102290432A 公开(公告)日: 2011-12-21
发明(设计)人: 藤川最史;细谷邦雄 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/05;H01L29/786
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 钱慰民
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明揭示一种显示器件及其制造方法。一般希望在显示器件中将低电阻材料用于配线,但是到现在为止没有存在形成配线的有效方法。本发明的结构之一包括以下工序:形成第一导电膜;在第一导电膜上选择性地形成抗蚀剂;在第一导电膜及抗蚀剂上形成第二导电膜;在去除抗蚀剂的同时去除形成在抗蚀剂上的第二导电膜;形成第三导电膜,使其覆盖形成在第一导电膜上的第二导电膜;选择性地蚀刻第一导电膜及第三导电膜;形成多个布线及电极。由此,由于可以在大型面板中形成用低电阻材料的布线,因此可以解决信号延迟等问题。
搜索关键词: 显示 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种显示器件,其特征在于,包括:半导体膜;栅极布线;在所述半导体膜和所述栅极布线之间的栅极绝缘膜;以及与所述半导体膜电连接的源极或漏极布线,所述栅极布线的第一部分包括:第一导电膜和形成在所述第一导电膜之上的第二导电膜,其中所述第一导电膜的整个上表面与所述第二导电膜接触,并且所述栅极布线的第二部分包括:所述第一导电膜;选择性地形成在所述第一导电膜上的第三导电膜;以及形成所述第二导电膜,使其覆盖所述第三导电膜。
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