[发明专利]均匀清洗装置无效

专利信息
申请号: 201110171246.1 申请日: 2011-06-23
公开(公告)号: CN102836840A 公开(公告)日: 2012-12-26
发明(设计)人: 奂微微 申请(专利权)人: 苏州五方光电科技有限公司
主分类号: B08B3/12 分类号: B08B3/12
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林
地址: 215200 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种均匀清洗装置,包括槽体,所述槽体的下端设置有超声波发生器,所述槽体的侧壁上端分别设置有挡板,所述挡板的边缘设置有梯形凸起,所述相邻梯形凸起之间为凹面梯形齿,所述挡板上的凹面梯形齿设置在同一个平面上,所述相邻梯形凸起、相邻凹面梯形齿的形状相同。本发明通过打磨机将挡板上的尖角打磨成凹面梯形齿,使得水流的地方平整,水流带动杂质从水槽的四周溢出,快速且均匀的去除了水中的杂质,保证镜片的清洗质量。
搜索关键词: 均匀 清洗 装置
【主权项】:
一种均匀清洗装置,包括槽体,所述槽体的下端设置有超声波发生器,其特征在于:所述槽体的侧壁上端分别设置有挡板,所述挡板的边缘设置有梯形凸起,所述相邻梯形凸起之间为凹面梯形齿。
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