[发明专利]高性能薄膜电阻及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201110172418.7 申请日: 2011-06-24
公开(公告)号: CN102314978A 公开(公告)日: 2012-01-11
发明(设计)人: 邓朝勇;雷远清;崔瑞瑞;张荣芬 申请(专利权)人: 贵州大学
主分类号: H01C7/00 分类号: H01C7/00;H01C1/00;H01C1/14;H01C17/00;H01C17/075
代理公司: 贵阳中新专利商标事务所 52100 代理人: 程新敏
地址: 550003 贵*** 国省代码: 贵州;52
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摘要: 发明公开了一种高性能薄膜电阻及其制造方法,包括绝缘基板,在绝缘基板上设有电阻薄膜,在每个电阻薄膜的两侧设有引出电极,在每个电阻薄膜两侧边缘的顶面设有顶部电极,在电阻薄膜的顶面及顶部电极的顶面上设有绝缘保护膜。本发明采用掩膜工艺与沉积法结合的方式来制备薄膜电阻,该方法所易于产业化,所获得的产品各层之间的附着力强、质量好;还采用了化学稳定性好的金属来作为薄膜电阻的材料,以提高电阻材料的耐腐蚀性及热稳定性,使其可以在如高频、高温、高压、低温和太空等恶劣环境下使用,能被应用在众多的高科技领域,扩展了其适用范围。
搜索关键词: 性能 薄膜 电阻 及其 制备 方法
【主权项】:
一种高性能薄膜电阻,包括绝缘基板(4),其特征在于:在绝缘基板(4)上设有电阻薄膜(3),在每个电阻薄膜(3)的两侧设有引出电极(1),在每个电阻薄膜(3)两侧边缘的顶面设有顶部电极(5),在电阻薄膜(3)的顶面及顶部电极(5)的顶面上设有绝缘保护膜(2)。
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