[发明专利]外延衬底、外延衬底的制备方法及外延衬底作为生长外延层的应用有效
| 申请号： | 201110172964.0 | 申请日： | 2011-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN102263171A | 公开（公告）日： | 2011-11-30 |
| 发明（设计）人： | 魏洋;范守善 | 申请（专利权）人： | 清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/12 | 分类号： | H01L33/12;H01L33/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区清*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种外延衬底，用于生长外延层，该外延衬底包括：一基底，该基底具有一图案化的表面作为外延生长面，其中，所述外延衬底进一步包括一碳纳米管层覆盖所述基底的外延生长面设置。本发明进一步提供外延衬底的制备方法及其作为生长外延层的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 外延 衬底 制备 方法 作为 生长 应用 | ||
【主权项】：
一种外延衬底，用于生长外延层，该外延衬底包括：一基底，该基底具有一图案化的表面作为外延生长面，其特征在于，所述外延衬底进一步包括一碳纳米管层覆盖所述基底的外延生长面设置，所述基底的外延生长面具有多个凹槽，所述碳纳米管层在对应所述凹槽的位置悬空设置。
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