[发明专利]平面腔体微机电系统及相关结构、制造和设计结构的方法

摘要

本发明公开一种平面腔体微机电系统及相关结构、制造和设计结构的方法。一种形成至少一个微机电系统(MEMS)的方法包括形成下牺牲材料，用于形成下腔体。该方法还包括形成将下腔体连接到上腔体的腔体通孔。该腔体通孔形成有圆形或倒角边缘的俯视外形。该方法还包括在腔体通孔内及其上方形成上牺牲材料，其具有基于该腔体通孔的外形的生成表面。该上腔体形成有顶盖，该顶盖具有不妨碍MEMS梁的结构，包括：在上牺牲材料的生成表面上沉积顶盖材料；以及排出该上牺牲材料以形成上腔体，从而该顶盖材料形成与该上牺牲材料的生成表面保形的顶盖。

主权项

一种形成至少一个微机电系统的方法，包括：形成下牺牲材料，该下牺牲材料用于形成下腔体；形成将该下腔体连接到上腔体的腔体通孔，该腔体通孔形成有圆形或倒角边缘的俯视外形；以及在该腔体通孔内及其上方形成上牺牲材料，该上牺牲材料具有基于该腔体通孔的外形的生成表面；并且其中，该上腔体形成有顶盖，该顶盖具有不妨碍微机电系统梁的结构，包括：在该上牺牲材料的该生成表面上沉积顶盖材料；以及排出该上牺牲材料以形成该上腔体，从而该顶盖材料形成与该上牺牲材料的该生成表面保形的顶盖。