[发明专利]一种具有自产生压力的降阻剂有效
| 申请号： | 201110176244.1 | 申请日： | 2011-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN102354542A | 公开（公告）日： | 2012-02-15 |
| 发明（设计）人： | 何华林;陈国清 | 申请（专利权）人： | 成都桑莱特科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01B1/06 | 分类号： | H01B1/06;H01R4/66;C09K17/02;C09K17/40 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 梁田 |
| 地址： | 610000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有自产生压力的降阻剂，降阻剂主要由下述重量份配比的组分组成：导电盐1-20份??主剂20-60份??辅剂20-60份，所述的主剂为碳酸盐或碳酸氢盐，而所述的辅剂为硫酸氢盐、氨基磺酸、甲基二磺酸中的任意一种。本发明的有益效果是：生产运输时不会产生灰尘，可简化施工程序，使用方便，降低成本，并大大提高施工进度，并可随时补加；由于不凝固，使用后不残留，接地极可以重复使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 产生 压力 降阻剂 | ||
【主权项】：
一种具有自产生压力的降阻剂，其特征在于：所述的降阻剂主要由下述重量份配比的组分组成：导电盐1 20份 主剂20 60份 辅剂20 60份，所述的主剂为碳酸盐或碳酸氢盐，而所述的辅剂为硫酸氢盐、氨基磺酸、甲基二磺酸中的任意一种。
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