[发明专利]一种监控薄膜沉积过程异常的方法及系统有效
申请号: | 201110185574.7 | 申请日: | 2011-07-04 |
公开(公告)号: | CN102628165A | 公开(公告)日: | 2012-08-08 |
发明(设计)人: | 常有军;潘梦霄;刘还平;周贺 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭润湘 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种监控薄膜沉积过程异常的方法及系统,以确定在对产品进行薄膜沉积的过程中是否发生异常,从而进一步确定沉积得到的薄膜是否合格,提高对薄膜沉积后的产品进行不良检测的准确性,提高出产合格率,降低不良产品流入市场;方法包括:在薄膜沉积过程中实时监控并获取薄膜沉积反应室中的质谱信息;根据获取到的质谱信息生成质谱信息动态变化信息;将所述质谱信息动态变化信息与薄膜沉积过程正常情况下的质谱信息变化信息比较,确定薄膜沉积过程是否异常。 | ||
搜索关键词: | 一种 监控 薄膜 沉积 过程 异常 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种监控薄膜沉积过程异常的方法,其特征在于,包括:在薄膜沉积过程中实时监控并获取薄膜沉积反应室中的质谱信息;根据获取到的质谱信息生成质谱信息动态变化信息;将所述质谱信息动态变化信息与薄膜沉积过程正常情况下的质谱信息变化信息比较,确定薄膜沉积过程是否异常。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的