[发明专利]投影装置及阵列透镜模组有效

专利信息
申请号: 201110186021.3 申请日: 2011-06-30
公开(公告)号: CN102854721A 公开(公告)日: 2013-01-02
发明(设计)人: 林晅铤 申请(专利权)人: 中强光电股份有限公司
主分类号: G03B21/14 分类号: G03B21/14;G02B7/02;F21V5/04
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 蔡胜利
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种投影装置及阵列透镜模组,所述投影装置,包括光机座、光源、光阀、镜头及阵列透镜模组。光源、光阀及镜头组装至光机座。阵列透镜模组包括架体、第一阵列透镜及第二阵列透镜。架体固定于光机座。第一阵列透镜与架体其中之一具有第一定位孔,架体与第一阵列透镜其中之另一具有第一定位柱,第一定位柱插入第一定位孔将第一阵列透镜固定于架体。第二阵列透镜与架体其中之一具有第二定位孔,架体与第二阵列透镜其中之另一具有第二定位柱,第二定位柱插入第二定位孔将第二阵列透镜固定于架体。光源发出的光束依序通过第一阵列透镜、第二阵列透镜及光阀而到达镜头。
搜索关键词: 投影 装置 阵列 透镜 模组
【主权项】:
一种投影装置,包括:一光机座;一光源,组装至该光机座;一光阀,组装至该光机座;一镜头,组装至该光机座;以及一阵列透镜模组,包括:一架体,固定于该光机座;一第一阵列透镜,该第一阵列透镜与该架体其中之一具有至少一第一定位孔,该架体与该第一阵列透镜其中之另一具有至少一第一定位柱,该第一定位柱插入该第一定位孔,将该第一阵列透镜固定于该架体;以及一第二阵列透镜,该第二阵列透镜与该架体其中之一具有至少一第二定位孔,该架体与该第二阵列透镜其中之另一具有至少一第二定位柱,该第二定位柱插入该第二定位孔,将该第二阵列透镜固定于该架体,其中该光源发出的一光束依序通过该第一阵列透镜、该第二阵列透镜及该光阀而到达该镜头。
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