[发明专利]调整台移动方案中的速度和/或路线的方法和光刻设备有效

专利信息
申请号: 201110186722.7 申请日: 2011-06-28
公开(公告)号: CN102402128A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: C·D·格乌斯塔;N·R·肯帕;N·J·M·范登涅乌维拉尔;D·德伍利斯;李华;M·乔詹姆森 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴敬莲
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明公开了一种调节台移动方案中的速度和/或路线的方法和光刻设备。还公开了一种调整在光刻设备的浸没流体供给系统下面的台的移动方案的一部分的路线和/或速度的方法。所述方法包括步骤:将台的移动方案分解为多个分立移动;通过确定浸没流体供给系统是否通过从浸没流体供给系统泄漏的浸没流体存在的位置而确定在特定分立移动期间尺寸大于特定尺寸的气泡存在于光刻设备的图案化束将通过的浸没流体供给系统的浸没流体内的风险;和调整(i)与比确定气泡风险所针对的分立移动更早的分立移动相对应的移动方案的一部分的路线和/或速度,和/或调整(ii)与确定气泡风险所针对的分立移动相对应的移动方案的一部分的路线和/或速度。
搜索关键词: 调整 移动 方案 中的 速度 路线 方法 光刻 设备
【主权项】:
一种调整在光刻设备的浸没流体供给系统下面的台的移动方案的一部分的路线和/或速度的方法,所述方法包括步骤:将台的移动方案分解成多个分立移动;对于多个分立移动的特定分立移动,通过确定从浸没流体供给系统泄漏的浸没流体存在的位置是否在浸没流体供给系统下面行进而确定在特定分立移动期间尺寸大于特定尺寸的气泡存在于光刻设备的图案化束将通过的浸没流体供给系统的浸没流体内的风险;和调整(i)与比确定气泡风险所针对的分立移动更早的分立移动相对应的移动方案的一部分的路线和/或速度,和/或调整(ii)与确定气泡风险所针对的分立移动相对应的移动方案的一部分的路线和/或速度。
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