[发明专利]光刻机掩模的对准扫描方法及对准信号处理方法有效
| 申请号： | 201110187358.6 | 申请日： | 2011-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN102866603A | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 陈小娟;李运锋;赵正栋 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种光刻机掩模的对准扫描方法，依次进行X轴方向扫描、由X轴方向至Y轴方向的过渡扫描、Y轴方向扫描；其中所述X轴方向及Y轴方向的扫描速度、采样点数为固定值，所述过渡扫描的扫描轨迹、扫描速度及采样点数为随机值。针对上述对准扫描方法，本发明还提供了一种逐点推进的对准信号处理方法，上述对准扫描方法和对准信号处理方法能够提高数字信号处理的速度、更好地实现实时性，进而提高光刻机的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 机掩模 对准 扫描 方法 信号 处理 | ||
【主权项】：
一种光刻机掩模的对准扫描方法，其特征在于，所述扫描方法为依次进行X轴方向扫描、由X轴方向至Y轴方向的过渡扫描、Y轴方向扫描；其中所述X轴方向及Y轴方向的扫描速度、采样点数为固定值，所述过渡扫描的扫描轨迹、扫描速度及采样点数为随机值。
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