[发明专利]负偏压温度不稳定性测试附加电路及测试方法有效

专利信息
申请号: 201110188627.0 申请日: 2011-07-07
公开(公告)号: CN102866340A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 冯军宏 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G01R31/26 分类号: G01R31/26
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 牛峥;王丽琴
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种用于负偏压温度不稳定性(NBTI)测试的附加电路及测试方法,其中,附加电路分别连接源-测量单元和待测PMOS;附加电路包括一个NMOS;NMOS的基极通过电阻R0与NMOS的源极电连接;NMOS的漏极通过电阻R1与待测的PMOS栅极电连接;NMOS的栅极通过电阻R2与待测的PMOS栅极电连接;NMOS基极的电位设置为小于0V,源-测量单元电压输入端与NMOS的栅极相连。当源-测量单元输入电压变为0V时,由于R2电阻分压,使得待测PMOS栅极电压小于0V,即等于在断开应力电压后出现NBTI恢复效应时,仍有一个R2的分压电压施加在待测PMOS的栅极,抑制了PMOS中NBTI的恢复效应,使得测量结果更加精确。
搜索关键词: 偏压 温度 不稳定性 测试 附加 电路 方法
【主权项】:
一种负偏压温度不稳定性测试附加电路,分别连接源‑测量单元和待测PMOS,其特征在于,所述测试电路包括一个NMOS;其中,NMOS的基极通过电阻R0与NMOS的源极电连接;NMOS的漏极通过电阻R1与待测的PMOS栅极电连接;NMOS的栅极通过电阻R2与待测的PMOS栅极电连接;NMOS基极的电位设置为小于0V,源‑测量单元电压输入端与所述NMOS的栅极相连。
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