[发明专利]负偏压温度不稳定性测试附加电路及测试方法有效
申请号: | 201110188627.0 | 申请日: | 2011-07-07 |
公开(公告)号: | CN102866340A | 公开(公告)日: | 2013-01-09 |
发明(设计)人: | 冯军宏 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G01R31/26 | 分类号: | G01R31/26 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 牛峥;王丽琴 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种用于负偏压温度不稳定性(NBTI)测试的附加电路及测试方法,其中,附加电路分别连接源-测量单元和待测PMOS;附加电路包括一个NMOS;NMOS的基极通过电阻R0与NMOS的源极电连接;NMOS的漏极通过电阻R1与待测的PMOS栅极电连接;NMOS的栅极通过电阻R2与待测的PMOS栅极电连接;NMOS基极的电位设置为小于0V,源-测量单元电压输入端与NMOS的栅极相连。当源-测量单元输入电压变为0V时,由于R2电阻分压,使得待测PMOS栅极电压小于0V,即等于在断开应力电压后出现NBTI恢复效应时,仍有一个R2的分压电压施加在待测PMOS的栅极,抑制了PMOS中NBTI的恢复效应,使得测量结果更加精确。 | ||
搜索关键词: | 偏压 温度 不稳定性 测试 附加 电路 方法 | ||
【主权项】:
一种负偏压温度不稳定性测试附加电路,分别连接源‑测量单元和待测PMOS,其特征在于,所述测试电路包括一个NMOS;其中,NMOS的基极通过电阻R0与NMOS的源极电连接;NMOS的漏极通过电阻R1与待测的PMOS栅极电连接;NMOS的栅极通过电阻R2与待测的PMOS栅极电连接;NMOS基极的电位设置为小于0V,源‑测量单元电压输入端与所述NMOS的栅极相连。
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