[发明专利]纳米器件沟道超薄栅介质电容测试方法无效

专利信息
申请号: 201110188786.0 申请日: 2011-07-05
公开(公告)号: CN102866303A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 殷华湘;梁擎擎;钟汇才 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G01R27/26 分类号: G01R27/26;G01R31/26
代理公司: 北京蓝智辉煌知识产权代理事务所(普通合伙) 11345 代理人: 陈红
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种纳米器件沟道超薄栅介质电容测试方法,包括:向器件施加第一频率的交流测试信号,确定器件在第一频率下的第一阻抗矢量包括幅值与相角;向器件施加第二频率的交流测试信号,确定器件在第二频率下的第二阻抗矢量包括幅值与相角;通过第一频率、第二频率、第一阻抗以及第二阻抗确定器件的电容。本发明的纳米器件沟道超薄栅介质电容测试方法,利用射频-超高频双频阻抗测试方法直接测定纳米沟道超薄栅介质的微小电容,能以较小误差测定纳米器件沟道与栅电容,抑制超薄栅介质高漏电的寄生影响,提高纳米器件沟道的微小电容测试量程,且对纳米器件沟道电容的直接在片测试无需特殊测试结构。
搜索关键词: 纳米 器件 沟道 超薄 介质 电容 测试 方法
【主权项】:
一种纳米器件沟道超薄栅介质电容测试方法,包括:向测试端口施加第一频率的交流测试信号,确定器件在第一频率下的第一阻抗矢量Z1幅值|Z1|与相角Φ1;向测试端口施加第二频率的交流测试信号,确定器件在第二频率下的第二阻抗矢量Z2幅值|Z2|与相角Φ2;通过第一频率、第二频率、第一阻抗矢量以及第二阻抗矢量确定器件的电容。
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