[发明专利]多光束激光并行直写光栅的装置及光栅直写方法无效

专利信息
申请号: 201110188988.5 申请日: 2011-07-07
公开(公告)号: CN102253605A 公开(公告)日: 2011-11-23
发明(设计)人: 麻健勇;曹武刚;周常河;朱锋;曹红超 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B27/10;G02B5/18
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种多光束激光并行直写光栅的装置及光栅直写方法,包括刻写光路、探测光路和控制模块三部分,其特点是在刻写光路中设置了达曼光栅分光器件,使刻写光栅的效率比传统的单光束激光直写装置提高了几十倍。
搜索关键词: 光束 激光 并行 光栅 装置 方法
【主权项】:
一种多光束激光并行直写光栅的装置,包括刻写光路、探测光路和控制模块三部分,其特征在于:所述的刻写光路包括蓝光激光器(5),沿蓝光激光器(5)输出光束方向,是同轴的小孔光阑(6)、扩束透镜组(7)、达曼光栅(8)、4F透镜组(9)、方形光衰减片(10)、光谱分光镜(17),在该光谱分光镜(17)的反射方向是显微物镜(19),光束经过显微物镜(19)后聚焦在精密水平台(21)上的待刻写的光栅模板(20)上;所述的探测光路包括红光激光器(14),在红光激光器(14)出射的线偏振平行光束经偏振分光棱镜(15)反射后垂直向下依次经四分之一波片(16)后变为圆偏振光,再经过光谱分光镜(17)和显微物镜(19),与所述的蓝光光束重合并聚焦在待刻写的光栅模板(20)上,经待刻写的光栅模板(20)反射后,再依次透过光谱分光棱镜(17)和四分之一波片(16)后,成为与入射光束偏振方向相垂直的线偏振光,透过所述的偏振分光棱镜(15),再经过滤波片(13)、消象散透镜组(12),由信号采集传感器(11)采集;所述的控制模块包括计算机(1),所述的信号采集传感器(11)的输出端经数据采集卡(3)与计算机(1)的输入端相连,该计算机(1)的一个输出端经PZT控制器(4)与精密压电纳米定位仪(18)的控制端相连,所述的计算机(1)根据所述数据采集卡(3)输入的信号采集传感器(11)的信号,输出相应的控制信号,通过所述的PZT控制器(4)的驱动所述的精密压电纳米定位仪(18),调整所述的显微物镜(19)的焦点始终位于所述的待刻写的光栅模板(20)上,该计算机(1)的另一输出端经平台控制器(2)控制所述的二维位移平台(22)的位移带动所述的精密水平台(21)的运动。
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