[发明专利]产生线聚焦的光学系统以及用于处理基底的设备无效

专利信息
申请号: 201110189440.2 申请日: 2011-07-07
公开(公告)号: CN102313993A 公开(公告)日: 2012-01-11
发明(设计)人: 霍尔格·明兹 申请(专利权)人: 卡尔蔡司激光器材有限责任公司
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09;B23K26/06;B23K26/073
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邱军
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 一种用于由沿着传播方向传播的光束在像平面中产生线聚焦的光学系统以及用于处理基底的设备,该光学系统包括:束扩张光学单元,使光束在垂直于传播方向的第一维度上扩张;聚焦光学单元,其将光束在垂直于传播方向且垂直于第一维度的第二维度上以线聚焦的形式聚焦到像平面中。线聚焦在第一维度上的尺寸比在第二维度上的尺寸大若干倍。光学系统具有聚焦操纵器用于连续地校正所述线聚焦的分布,所述聚焦操纵器具有第一光学元件和至少一个第二光学元件,其中第一光学元件具有第一非球面,且所述第二光学元件具有第二非球面,并且其中,为了连续地校正线聚焦的分布,第一光学元件和第二光学元件相对于彼此是位置可调的。
搜索关键词: 产生 聚焦 光学系统 以及 用于 处理 基底 设备
【主权项】:
一种光学系统,用于由沿传播方向(z)传播的光束(32;62)在像平面(B)中产生线聚焦(F),所述光学系统包括:束扩张光学单元(36;64),使所述光束(32;62)在垂直于所述传播方向(z)的第一维度(x)上扩张;聚焦光学单元(38;66),将所述光束(32;62)在垂直于所述传播方向(z)且垂直于所述第一维度(x)的第二维度(y)上以所述线聚焦(F)的形式聚焦到所述像平面(B)中,其中,所述线聚焦(F)在所述第一维度(x)上的尺寸(L)比所述线聚焦(F)在所述第二维度(y)上的尺寸(W)大若干倍,其特征在于聚焦操纵器(40;72)用于连续地校正所述线聚焦(F)的分布,所述聚焦操纵器具有第一光学元件和至少一个第二光学元件(42,44;74,76),其中所述第一光学元件(42;74)具有第一非球面(46;78),且所述第二光学元件(44;76)具有第二非球面(48;80),并且其中,为了连续地校正所述线聚焦(F)的分布,所述第一光学元件(42;74)和所述第二光学元件(44;76)相对于彼此是位置可调的。
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