[发明专利]防散射X‑射线滤线栅器件及其制造方法有效
| 申请号： | 201110190671.5 | 申请日： | 2011-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN102389320B | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | J·J·肖;K·M·迪罗歇 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | A61B6/06 | 分类号： | A61B6/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 曲卫涛,朱海煜 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种制造防散射X‑射线滤线栅器件(10)的方法以及由该方法制造的X‑射线滤线栅器件(10)包括提供由基本上不吸收X‑射线的材料(16)制成的衬底(14)，在衬底(14)中包括通道(18)；在通道(18)的侧壁(20)上施加(32)同样基本上不吸收X‑射线的材料(34)的层，其中该层包含第二材料(34)；然后在通道(18)的一部分中施加(44)显著吸收X‑射线的材料(42)，以便定义多个X‑射线吸收元件(12)。就具体实施例描述了本发明，并且意识到，除了那些明确叙述的内容之外，等效物、备选和修改都是可能的并且在随附权利要求的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 散射 射线 滤线栅 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种制造防散射X‑射线滤线栅器件(10)的方法，包括：提供包含不吸收X‑射线的第一材料(16)的衬底(14)，所述衬底(14)中具有多个通道(18)；在所述多个通道(18)的侧壁(20)上施加(32)层，其中所述层包含不吸收X‑射线的第二材料(34)；以及在所述多个通道(18)的一部分中施加(44)吸收X‑射线的第三材料(42)，从而定义多个X‑射线吸收元件(12)；其中，在最后形成的防散射X‑射线滤线栅中，所述通道完全位于所述衬底中。
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