[发明专利]一种电场诱导凸形界面二维光子晶体的制备工艺

摘要

一种电场诱导凸形界面二维光子晶体的制备工艺，先进行诱导模板的制备，再进行基材的选择及处理，然后进行电场诱导光子晶体功能材料流变成型，最后进行聚合物材料的固化及后处理，从而得到具有一定曲率的凸形界面二维光子晶体结构，可以广泛地应用在芯片实验室、高电容解耦式电容器、太阳能电池、平板式显示器等方面。

主权项

一种电场诱导凸形界面二维光子晶体的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：第一步，诱导模板的制备：在熔融玻璃表面利用光刻与刻蚀工艺加工出所需要的图形结构，在得到的图形结构表面蒸镀一层纳米至微米级别的ITO层，然后采用套刻工艺在ITO层上图形区周围加工出凸起的绝缘栅线结构，然后进行表面处理得到诱导模板，第二步，基材的选择及处理：采用ITO玻璃作为基材，利用匀胶机在其表面旋涂两层UV光固化聚合物材料，底部一层为实现光子晶体结构的功能材料，顶部一层为粘度是底部聚合物材料2‑20倍的UV光固化材料，两层UV光固化聚合物材料的厚度均为纳米级至微米级，第三步，电场诱导光子晶体功能材料流变成型：施加压力将诱导模板压在两层UV光固化聚合物材料上，保证诱导模板与基材接触即可，施加外接直流电源，诱导模板的ITO层接电源的正极，基材的ITO玻璃接电源负极，调节电压，使光子晶体功能材料所受的电场力克服表面张力以及粘滞阻力流变，保持两层UV光固化聚合物材料在稳定的电压下0.25‑4小时，直至复型过程结束，第四步，聚合物材料的固化及后处理：在保持电压不变的情况下利用紫外光从顶部通过透明模板以及从底部透过ITO玻璃照射已完成复型的两层UV光固化聚合物材料，固化电诱导复型所得的微纳结构，然后利用有机溶剂洗去顶部一层的UV光固化聚合物材料，从而得到具有一定曲率的凸形界面二维光子晶体结构。