[发明专利]化学除污装置以及化学除污方法有效

专利信息
申请号: 201110193995.4 申请日: 2007-02-06
公开(公告)号: CN102262909A 公开(公告)日: 2011-11-30
发明(设计)人: 远田正见;市川长佳;金田雅之;金崎健;古井敏浩;矢板由美;稻见一郎 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G21F9/00 分类号: G21F9/00;G21F9/28
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 过晓东;谭邦会
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的一种化学除污装置,通过使用臭氧水化学溶解除污对象表面上形成或粘附的含放射性物质的氧化物膜来进行所述除污。该化学除污装置包括用于产生臭氧气体的臭氧发生单元,用于将产生的臭氧气体供给到水中的臭氧供给单元的臭氧供给设备,以及位于臭氧供给单元内的烧结金属元件37,而且臭氧气体由臭氧供给设备供给至该金属元件。使从臭氧供给设备供给到烧结金属元件内部的臭氧气体流出所述元件而进入水中,以便生成臭氧水。本发明还提供了一种化学除污方法。
搜索关键词: 化学 装置 以及 方法
【主权项】:
一种堆内化学除污装置,其用于通过使用有机酸作为还原剂、臭氧水作为氧化剂来化学除污反应堆主系统的除污对象,该装置包括:用于向反应堆主系统的反应堆内部供给除污溶液的除污溶液供给设备;用于将臭氧气体注入反应堆主系统的反应堆内部的臭氧供给单元;用于以注入的臭氧气体产生臭氧水的臭氧水生成单元;以及用于在反应堆主系统中使产生的臭氧气体循环的臭氧水循环单元,其中所述臭氧供给设备包括用于扩散臭氧气体的臭氧扩散管,所述臭氧扩散管设置在所述臭氧水生成单元的入口一侧。
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