[发明专利]含锡锑中间层的钌钯钴涂层钛电极无效
| 申请号： | 201110195199.4 | 申请日： | 2011-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN102268688A | 公开（公告）日： | 2011-12-07 |
| 发明（设计）人： | 安立超;卢强 | 申请（专利权）人： | 南京理工大学 |
| 主分类号： | C25B11/04 | 分类号： | C25B11/04;C25B11/10 |
| 代理公司： | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人： | 朱显国 |
| 地址： | 210094 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种含锡锑中间层的钌钯钴涂层电极，钛板主体的表面涂敷有3~7层锡锑氧化物涂层作为目标电极的中间层；在中间层表面涂敷有15~24层钌钯钴氧化物涂层作为目标电极的表层，本发明涂层钛电极相对于传统二氧化钌涂层钛电极（RuO2/Ti），具有更高的析氧电位和更低的析氯电位，以及更长的使用寿命，能有效提高电催化氧化反应体系的电流效率和电极使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 含锡锑 中间层 钌钯钴 涂层 电极 | ||
【主权项】：
一种含锡锑中间层的钌钯钴涂层钛电极，其特征在于：钛板主体[1]表面有若干层锡锑氧化物涂层[2]作为中间层，中间层表面有若干层钌钯钴氧化物涂层[3]作为表层；钌钯钴氧化物涂层[3]的组分形式为二氧化钌RuO2、氧化钯PdO、氧化钴CoO和氧化钴Co2O3，电极表层组分摩尔配比为n(Ru): n(Pd): n(Co)=1:(0.5~5):(0.35~3.5)。
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