[发明专利]基于双面图形化衬底的透射式GaN紫外光电阴极无效

专利信息
申请号: 201110195907.4 申请日: 2011-07-13
公开(公告)号: CN102280343A 公开(公告)日: 2011-12-14
发明(设计)人: 杜晓晴;童广 申请(专利权)人: 重庆大学
主分类号: H01J40/06 分类号: H01J40/06
代理公司: 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 代理人: 张先芸
地址: 400044 *** 国省代码: 重庆;85
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摘要: 发明公开了一种基于双面图形化衬底的透射式GaN紫外光电阴极,该阴极自下而上由蓝宝石衬底、AlN/AlxGa1-xN缓冲层、p型GaN光电发射层以及Cs或Cs/O激活层组成;蓝宝石衬底的上表面均布设有m个凹孔Ⅰ,102≤m≤104,蓝宝石衬底的下表面均布设有n个凹孔Ⅱ,102≤n≤104。本发明采用双面凹孔图形结构提高蓝宝石衬底对紫外光的透射率,并增加蓝宝石衬底的生长应力作用范围,以提高缓冲层及GaN外延层质量,从而使GaN阴极获得较高的量子转换效率。
搜索关键词: 基于 双面 图形 衬底 透射 gan 紫外 光电 阴极
【主权项】:
一种基于双面图形化衬底的透射式GaN紫外光电阴极,其特征在于:该阴极自下而上由蓝宝石衬底(1)、AlN或AlxGa1‑x N缓冲层(2)、p型GaN光电发射层(3)以及Cs或Cs/O 激活层(4)组成;所述蓝宝石衬底(1)的上表面均布设有m个凹孔Ⅰ(5),102≤m≤104,蓝宝石衬底(1)的下表面均布设有n个凹孔Ⅱ(6),102≤n≤104。
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