[发明专利]幕墙系统、幕墙盖建方法及其使用的面材单元与盖建方法有效

专利信息
申请号: 201110196771.9 申请日: 2011-07-14
公开(公告)号: CN102877577A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 丁明朗 申请(专利权)人: 丁明朗
主分类号: E04B2/88 分类号: E04B2/88;E04G21/14
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 美国匹*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明是一种幕墙系统由至少一幕墙支撑直料支撑复数个单元建构,此单元包括一个或多个的功能性单元:过渡单元及可结合上及/或下端过渡单元的相邻单元,此乃因每一单元具有一公性框料,用来固定具有母性框料的相邻单元。在每一过渡单元,一框架利用边料组合连接上框料及下框料。因此,此幕墙系统可轻易地由下向上或由上向下或上下混和的方式进行施工。
搜索关键词: 幕墙 系统 方法 及其 使用 单元
【主权项】:
一种幕墙系统,其特征在于,包括:一幕墙支撑直料,以及复数单元,该复数单元利用该幕墙支撑直料支撑;其中,该单元包括:复数施工单元,以及复数上相邻单元或/及下相邻单元;每一该施工单元包括:一上突公性框料,一下突公性框料,及至少一边料,该至少一边料连接该上突公性框料及该下突公性框料,以组成每一该施工单元的框架;该复数上相邻单元或/及下相邻单元,每一该相邻单元包括一母性框料,该母性框料与该上突公性框料或该下突公性框料接合。
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