[发明专利]光反应性聚合物及其制备方法

摘要

本发明提供一种表现更快的光反应速度及优异取向性的光反应性聚合物及其制备方法和包含该光反应性聚合物的取向层。所述光反应性聚合物，其总含量中包含50mol％以上的含有偶氮类官能团的特定重复单元。

主权项

1.一种光反应性聚合物，其特征在于，包含含量为总聚合物的50mol％以上的由下述化学式3或4表示的重复单元：[化学式3]                             [化学式4]在化学式3或4中，n为50～5000，p为0～4的整数，R₁、R₂、R₃和R₄中的至少一个是选自由下述化学式1a、1b及1c所组成的组中的基团，其余的R₁、R₂、R₃和R₄分别独立地选自由氢；卤素；取代或未取代的C1～C20烷基；取代或未取代的C2～20烯基；取代或未取代的C2～20炔基、取代或未取代的C3～12环烃基；取代或未取代的C6～40的芳基；以及包含选自氧、氮、磷、硫、硅及硼中的至少一种的极性官能团所组成的组中，其中，当所述R₁～R₄均不为氢、卤素、或者极性官能团时，R₁和R₂或者R₃和R₄相互连接而形成C1～C10的烷叉基，或者R₁或R₂与R₃及R₄中的一个连接而形成C4～C12的饱和或不饱和的环或者形成C6～C24的芳族环，[化学式1a][化学式1b]或者[化学式1c]所述化学式1a、1b或1c中，n1、p1、r1及m1为0～4的整数，n2、p2、r2及m2为0～5的整数，A为取代或未取代的C1～C20亚烷基、羰基、羧基、取代或未取代的C6～C40亚芳基或者单键，B为氧、硫、-NH-或者单键，R₉为单键、取代或未取代的C1～C20的亚烷基、取代或未取代的C2～C20的亚烯基、取代或未取代的C2～C20的亚炔基、取代或未取代的C3～C12的亚环烃基、取代或未取代的C6～C40的亚芳基、或者取代或未取代的C7～C15的亚芳烷基，R₁₀及R₁₁独立地为氢、卤素、取代或未取代的C1～C20烷基、取代或未取代的C1～C20烷氧基、取代或未取代的C6～C30的芳氧基、或者取代或未取代的C6～C40芳基。