[发明专利]涂覆显影装置、涂覆显影方法和存储介质

摘要

本发明提供一种抑制处理块的设置面积并且抑制装置的工作效率降低的技术。构成具备模式选择部的涂覆显影装置，上述模式选择部用于在由检查模块进行的检查中检查出基板异常时，基于存储在存储部的数据，从模式M1和M2中选择后续的基板的搬送模式。上述模式M1，确定显影处理用的单位块中处理过基板的模块，控制单位块用的搬送机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的模块以外的模块，上述模式M2，确定处理过基板的显影处理用的单位块，控制交接机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的显影处理用的单位块以外的显影处理用的单位块。

主权项

一种涂覆显影装置，将通过载体搬入到载体块的基板交接到处理块，在该处理块形成包括抗蚀剂膜的涂覆膜之后，通过相对于所述处理块位于与载体块相反侧的接口块搬送到曝光装置，在所述处理块对通过所述接口块返回的曝光后的基板进行显影处理，并交接到所述载体块，该涂覆显影装置的特征在于，具备：a)所述处理块，其包括：将前段涂覆用的单位块作为第一前段涂覆用单位块和第二前段涂覆用单位块上下二层化并相互叠层而形成的部件，所述前段涂覆用的单位块具备：向基板供给药液，形成曝光处理所必要的薄膜中的前段薄膜的液处理模块；对基板进行加热的加热模块；和用于在这些模块之间搬送基板、在连接载体块和接口块的直线搬送路径上移动的单位块用的搬送机构；将后段涂覆用的单位块作为第一后段涂覆用单位块和第二后段涂覆用单位块上下二层化并相互叠层而形成的部件，该后段涂覆用的单位块具备：相对于所述前段涂覆用单位块叠层、向曝光处理所必要的薄膜中的所述前段薄膜上供给药液而形成后段薄膜的液处理模块；对基板进行加热的加热模块；和用于在这些模块之间搬送基板、在连接载体块和接口块的直线搬送路径上移动的单位块用的搬送机构；和将显影处理用单位块作为第一显影处理用的单位块和第二显影处理用的单位块上下二层化并相互叠层而形成的部件，该显影处理用的单位块具备：相对于所述前段涂覆用单位块叠层、向基板供给显影液的液处理模块；对基板进行加热的加热模块；和在连接载体块和接口块的直线搬送路径上移动的单位块用的搬送机构，b)所述前段薄膜和后段薄膜的一方为包括抗蚀剂膜的薄膜，c)针对各单位块的每个设置于载体块一侧的、在与各单位块的搬送机构之间进行基板的交接的交接部，d)第一交接机构，其用于将基板从载体分配、交接到与前段涂覆用的各单位块对应的所述交接部，并且使基板从显影处理用的各单位块的交接部返回载体，并且将通过前段涂覆用的各单位块处理过的基板交接到与后段涂覆用的各单位块对应的所述交接部，e)第二交接机构，其用于接收在所述处理块处理过的曝光前的基板，并将曝光后的基板分配、交接到显影处理用的单位块，f)对显影处理后的基板进行检查的显影后检查模块，g)存储直到检查对象的基板在所述检查模块接收检查为止，所述检查对象的基板被搬送的路径的数据的存储部，以及h)模式选择部，其用于在利用所述检查模块进行的检查中检测出基板异常时，基于在存储部存储的数据，从包括模式M1和模式M2的显影后异常应对用的模式组中选择后续的基板的搬送模式，所述模式M1为如下模式：在显影处理用的单位块中，确定处理过被检测出异常的基板的模块，控制单位块用的搬送机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的模块以外的模块，所述模式M2为如下模式：确定处理过被检查出异常的基板的显影处理用的单位块，控制第二交接机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的显影处理用的单位块以外的显影处理用的单位块。