[发明专利]稀土-硅复配精密型稀土抛光粉及其制备方法有效
申请号: | 201110201552.5 | 申请日: | 2011-07-19 |
公开(公告)号: | CN102329571A | 公开(公告)日: | 2012-01-25 |
发明(设计)人: | 赵月昌;高璐;蒙素玲;曹红霞;杨筱琼;高玮 | 申请(专利权)人: | 上海华明高纳稀土新材料有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
代理公司: | 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 | 代理人: | 罗大忱 |
地址: | 201613*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种稀土-硅复配精密型稀土抛光粉及其制备方法,稀土-硅复配精密型稀土抛光粉由如下质量百分比的组分组成:氧化硅5~50%,稀土氧化物50~95%。与现有技术相比,本发明提供的精密型稀土抛光粉及其制备方法,具有成本低、生产工艺简单、产品抛蚀量和耐磨性高等优点。 | ||
搜索关键词: | 稀土 硅复配 精密 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
稀土‑硅复配精密型稀土抛光粉,其特征在于,由如下质量百分比的组分组成;氧化硅 5~50%稀土氧化物 50~95%。
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