[发明专利]改性微孔隔膜及其制备方法和应用无效

专利信息
申请号: 201110203332.6 申请日: 2011-07-20
公开(公告)号: CN102891275A 公开(公告)日: 2013-01-23
发明(设计)人: 张鹏;姜来新;王丹;何丹农 申请(专利权)人: 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司
主分类号: H01M2/18 分类号: H01M2/18
代理公司: 上海东方易知识产权事务所 31121 代理人: 唐莉莎
地址: 200241 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种制备改性微孔隔膜的方法,其特征在于原子层沉积制备改性微孔隔膜:将预处理的微孔隔膜置于原子层沉积设备的反应腔,关闭腔体,用高纯氮清洗反应腔,在20hPa以下的低真空并加热到反应温度80oC-150oC,在载气流量1-100ml/min条件下将前躯体通入反应腔完成一次脉冲,前驱体通入反应腔的脉冲时间为0.1-1s;用高纯氮气清洗,,高纯氮气清洗前躯体的脉冲时间为1-10s;然后通入水蒸气,得到沉积物,最后用高纯氮气清洗,脉冲时间1-20s;前躯体-高纯氮气清洗-水蒸气-高纯氮气清洗,该过程定义为一个沉积循环;沉积循环数在1-1000次后,得到改性的微孔隔膜。本方法能够大幅度提高电解质体系的离子传导速率,满足大电流充放电的需要。
搜索关键词: 改性 微孔 隔膜 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种制备改性微孔隔膜的方法,其特征在于具体步骤如下:(1)微孔隔膜的预处理:将微孔隔膜浸入无水乙醇,在超声条件下清洗,取出微孔隔膜,用无水乙醇淋洗,在60oC真空条件下烘干备用,保持欲改性的微孔隔膜有洁净的表面;(2)原子层沉积制备改性微孔隔膜:将步骤(1)预处理的微孔隔膜置于原子层沉积设备的反应腔,关闭腔体,再用纯度为99.999%的高纯氮清洗反应腔,在20hPa以下的低真空并加热到反应温度80oC‑150oC,在载气流量1‑100ml/min条件下将前躯体通入反应腔完成一次脉冲,前驱体通入反应腔的脉冲时间为0.1‑1秒;用高纯氮气清洗,,高纯氮气清洗前躯体的脉冲时间为1‑10秒;清洗掉多余的前躯体,然后通入水蒸气使前躯体发生水解,得到沉积物,通入水蒸汽的脉冲时间为0.1‑1秒,最后用高纯氮气清洗,去除未发生反应的水蒸气,脉冲时间1‑20秒;前躯体‑高纯氮气清洗‑水蒸气‑高纯氮气清洗,该过程定义为一个沉积循环;沉积循环数在1‑1000次后,得到改性的微孔隔膜;其中所述的前躯体为金属有机化合物,纯度大于98%。
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