[发明专利]薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201110203611.2 | 申请日： | 2011-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN102886929B | 公开（公告）日： | 2016-11-23 |
| 发明（设计）人： | 王仲培 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | B32B15/01 | 分类号： | B32B15/01;C23C14/16;C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 薛晓伟 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种薄膜，其附着在一个由不锈钢制成的基板的表面，且包括依次堆叠在所述基板表面的一附着层、一应力缓冲层及一颜色层。所述附着层由铬制成。所述应力缓冲层由钛与铬的混合物制成；所述颜色层由钛与铬的混合物制成。本发明的薄膜在所述基板表面的附着力较好，具有较好的耐磨性。本发明还涉及一种薄膜的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种薄膜，其附着在一个由不锈钢制成的基板的表面，且包括依次堆叠在所述基板表面的一个附着层、一个应力缓冲层及一个颜色层，所述附着层由铬制成；所述应力缓冲层由钛与铬的混合物制成；所述颜色层由钛与铬的混合物制成,所述附着层的厚度为0.2～0.25um，所述应力缓冲层的厚度为0.3～0.35um，所述颜色层的厚度为0.4～0.5um，所述应力缓冲层中钛与铬的质量比为1：1，所述颜色层中钛与铬的质量比为3：1。
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