[发明专利]基于数字掩模光刻技术的微透镜阵列的制作方法

摘要

一种基于数字掩模光刻技术的微透镜阵列的制作方法，其方法步骤为：将阵列中的单个透镜的高度等分为n个小微元，利用勾股定理计算出每一等分台阶对应平面圆的直径，将其进行四舍五入的取整处理，使其是DMD单个像素的整数倍。利用成像优化技术设计得到曝光图形，曝光、显影后得到微透镜阵列的浮雕结构。本发明的技术效果是：1、从设计上减小了传统方法给制作器件带来的误差，使微透镜具有更精确的表面轮廓结构，极大改善了微透镜阵列光学使用性能；2、融合数字实时、分形及旋转等成像优化技术，提高了对准精度，并减少了掩膜的数据量，节省大量的存储空间；3、可以保留更多透镜的微细结构，从而在制作方面受透镜表面形状限制更小。

主权项

1.一种基于数字掩模光刻技术的微透镜阵列的制作方法，其特征是方法步骤为：将阵列中的单个透镜的高度等分为n个小微元，然后根据勾股定理计算出每一等分台阶对应平面圆的直径，并将其进行四舍五入的取整处理，使其是DMD单个像素的整数倍，这样就可以消除DMD的显示失真的误差，根据取整处理后的直径设计出n幅简单的曝光图形，融合数字实时、分形及旋转等成像优化技术后，设计出最终所需要的m幅曝光图形，其中m远小于n，该m幅掩膜图形可以实现前面n幅简单曝光图形的曝光效果，这m幅曝光图形是具有不同透过率的二维掩膜，调制并通过精缩后在抗蚀剂上形成的光强分布为，令每一幅曝光图形的显示时间为，则可知每一幅曝光图形在抗蚀剂上得到的曝光量分布，把设计好的曝光图形按一定的时间间隔在计算机上显示，进行曝光后实现曝光量累积，显影后在显微镜下可以观察到所设计的微透镜阵列的浮雕结构。