[发明专利]用于掩模对准的探测器系统及方法有效
| 申请号： | 201110204032.X | 申请日： | 2011-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN102890422A | 公开（公告）日： | 2013-01-23 |
| 发明（设计）人： | 王海江;李运锋;唐文力;程鹏;曹佩;宋海军 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种用于掩模对准的探测器系统，包括：透射光栅及探测器单元，掩模对准标记的光学成像经过该透射光栅后由该探测器单元接收，该探测器单元包括至少两个探测器，该探测器在垂直方向上呈递增或递减位置分步，在水平方向上呈直线分布。以及提出一种用于掩模对准的探测方法。本发明的用于掩模对准的探测器系统及方法简化了对准扫描方式，提高对准效率并进一步提高设备产率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 对准 探测器 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种用于掩模对准的探测器系统，包括：透射光栅及探测器单元，掩模对准标记的光学成像经过所述透射光栅后由所述探测器单元接收，其特征在于，所述探测器单元包括至少两个探测器，所述探测器在垂直方向上呈递增或递减位置分布，在水平方向上呈直线分布。
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