[发明专利]载银医用金属生物活性涂层及其制备方法应用无效
申请号: | 201110204159.1 | 申请日: | 2011-07-20 |
公开(公告)号: | CN102886071A | 公开(公告)日: | 2013-01-23 |
发明(设计)人: | 王美艳;姜来新;何丹农 | 申请(专利权)人: | 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 |
主分类号: | A61L27/30 | 分类号: | A61L27/30;A61L27/54;C23C14/35;C23C14/16 |
代理公司: | 上海东方易知识产权事务所 31121 | 代理人: | 唐莉莎 |
地址: | 200241 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种载银医用金属生物活性涂层的制备方法:其特征在于采用磁控溅射法,包括以下步骤:(1)金属基体的处理;(2)溅射前金属基体的处理;(3)磁控溅射法制备载银医用金属生物活性涂层,阴极为高纯银靶,工作气体为氩气,真空室基底真空低于2.0x10-3Pa,靶的功率为40-80W,频率为13.0-15.6MHz,流量为30SCCM,控制沉积时间,得到载银医用金属生物活性涂层。本发明的载银医用金属生物活性涂层性能稳定、抗菌、无生物毒性、生物相容性好。 | ||
搜索关键词: | 医用 金属 生物 活性 涂层 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
一种载银医用金属生物活性涂层的制备方法:其特征在于采用磁控溅射法,包括以下步骤:(1)金属基体的处理;(2)溅射前金属基体的处理;(3)磁控溅射法制备载银医用金属生物活性涂层,阴极为高纯银靶,工作气体为氩气,真空室基底真空低于2.0x10‑3Pa,靶的功率为40‑80W,频率为13.0‑15.6MHz,流量为30SCCM,控制沉积时间,得到载银医用金属生物活性涂层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司,未经上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110204159.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:净化金属的聚合物
- 下一篇:存储器控制器飞速映射