[发明专利]大规模CIGS基薄膜光伏材料的钠溅射掺杂方法有效
申请号: | 201110205812.6 | 申请日: | 2011-07-21 |
公开(公告)号: | CN102347398A | 公开(公告)日: | 2012-02-08 |
发明(设计)人: | 梅·萨奥 | 申请(专利权)人: | 思阳公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;C23C14/34;C23C14/14;H01L31/0336 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 李丙林;张英 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明公开了一种对薄膜光伏材料进行钠掺杂的方法,包括在衬底上形成金属电极。本发明还公开了一种用于形成光伏材料的结构。在该方法中,利用包含4-12wt%的Na2SeO3和88-96wt%的铜-镓物质的第一靶材器件的溅射沉积用于形成具有第一Cu/Ga组成比的第一前体。在第一前体上方的第二前体包括使用第二靶材器件沉积的铜物质和镓物质,其中第二Cu/Ga组成比基本上等于第一Cu/Ga组成比。包含铟材料的第三前体覆盖第二前体。前体层经受至少利用硒物质的热反应,以便形成包含钠物质和铜与铟-镓原子比约为0.9的吸收剂材料。 | ||
搜索关键词: | 大规模 cigs 薄膜 材料 溅射 掺杂 方法 | ||
【主权项】:
一种对薄膜光伏材料进行钠掺杂的方法,所述方法包括:提供至少一个具有表面的衬底和覆盖所述表面的氧化物材料;在所述氧化物材料上方形成金属电极材料;至少使用包含4‑12wt%的Na2SeO3化合物物质和88‑96wt%铜‑镓物质的第一靶材器件实施溅射沉积过程,以形成第一前体材料,所述铜‑镓物质的特征在于第一Cu‑Ga组成比;形成覆盖所述第一前体材料的第二前体材料,所述第二前体材料包含使用第二靶材器件沉积的铜物质和镓物质,所述第二靶材器件具有基本上等于所述第一Cu‑Ga组成比的第二Cu‑Ga组成比;形成第三前体材料,所述第三前体材料包含覆盖所述第二前体材料的铟材料;以及至少利用气态硒物质,将至少所述第一前体材料、所述第二前体材料、和所述第三前体材料经受至少一种热反应处理,以导致形成吸收剂材料,所述吸收剂材料包含钠物质且铜与铟‑镓原子比为约0.9。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的