[发明专利]光刻机投影物镜奇像差原位检测系统和检测方法有效
申请号: | 201110206616.0 | 申请日: | 2011-07-22 |
公开(公告)号: | CN102253606A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
发明(设计)人: | 涂远莹;王向朝;步扬 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01M11/02 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种光刻机投影物镜奇像差原位检测系统和检测方法,所述系统包括光源、照明系统、掩模台、包含检测标记的掩模、投影物镜、工件台、像传感装置、用于位置控制的干涉仪及数据处理装置。所述的检测方法通过设置不同的部分相干因子和数值孔径,标定相应的投影物镜奇像差灵敏度系数,然后利用像传感装置测量所述检测标记的空间像峰值光强差值,再利用标定的奇像差灵敏度系数计算所述投影物镜的奇像差。本发明的优点是提高了光刻机投影物镜奇像差的检测精度。 | ||
搜索关键词: | 光刻 投影 物镜 奇像差 原位 检测 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种光刻机投影物镜奇像差原位检测系统,包括产生照明光束的光源(1)、调整光源(1)发出的光束的照明方式和部分相干因子并使光束均匀照明的照明系统(2)、搭载掩模并利用定位装置(6)实现精确定位的掩模台(3)、包含检测标记(5)的掩模(4)、能将掩模图形成像且数值孔径可调的投影物镜(7)、搭载硅片并利用定位装置(10)实现精确定位的工件台(8)、安装在工件台(8)上的记录所述掩模成像的光强分布的像传感装置(9)和数据处理装置(11),其特征在于所述的检测标记(5)为两组双线图形,即X方向检测标记(51)和Y方向检测标记(52),用于分别检测X方向和Y方向奇像差,且双线图形为透光区域,其余为不透光区域,所述的双线图形的线宽变化范围为150~300nm,两线之间不透光区域宽度的变化范围为100~300nm。
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