[发明专利]一种兼具高可见光吸收和高红外辐射的薄膜的制作方法无效
申请号: | 201110207415.2 | 申请日: | 2011-07-22 |
公开(公告)号: | CN102329086A | 公开(公告)日: | 2012-01-25 |
发明(设计)人: | 钱丽勋;韩阶平;李卓;吴峰霞 | 申请(专利权)人: | 北京金盛微纳科技有限公司;北京理工大学 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 李爱英;郭德忠 |
地址: | 100088 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种兼具高可见光吸收和高红外辐射的薄膜制作方法,包括衬底、吸收层和辐射层;衬底根据应用领域确定,一般为透明材料;吸收层由胶层和碳化层构成,是在原胶层的基础上进行碳化形成的黑色多孔蓬松状物质,具有高可见光吸收性能;辐射层是在吸收层的基础上溅射高红外辐射材料形成,使其具有原吸收层的粗糙表面从而进一步提高红外辐射特性;衬底的材料,吸收层的厚度和辐射层的材料和厚度都是根据实际应用选定。本发明的吸收辐射膜可利用微机械加工工艺形成各种精细的微结构,可控性高,同时还兼具高可见光吸收和高红外辐射得性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 兼具 可见 光吸收 红外 辐射 薄膜 制作方法 | ||
【主权项】:
一种兼具高可见光吸收和高红外辐射的薄膜的制作方法,其特征在于:该薄膜制作的过程具体如下:步骤一:选择透可见光衬底,大小根据实际需要确定;步骤二:清洗衬底操作面;步骤三:在清洗后的衬底操作面上旋涂光刻胶,形成胶层;胶层面积根据实际需要确定,小面积直接加工而成,而较大面积则用小面积进行拼接制作;胶层的厚度根据透明衬底材料的热导率和表面附着性能确定,透明衬底材料的热导率越高,胶层需要的厚度越大;透明材料的表面附着性能越高,胶层需要的厚度越小;步骤四:采用微机械加工技术控制工艺过程碳化胶层,形成吸收层;胶层被碳化的厚度根据微机械加工技术碳化胶层的能力和辐射层透光性决定,碳化程度越高,需要吸收层碳化厚度越小;辐射层透光性越大,需要吸收层碳化厚度越大;步骤五:在吸收层的表面溅射一层高红外辐射材料形成辐射层,最终形成兼具高可见光吸收和高红外辐射的薄膜。
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