[发明专利]固态浸没透镜微影术有效
申请号: | 201110208343.3 | 申请日: | 2005-06-23 |
公开(公告)号: | CN102279531A | 公开(公告)日: | 2011-12-14 |
发明(设计)人: | R·R·戈鲁甘苏;M·R·布鲁斯 | 申请(专利权)人: | 格罗方德半导体公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;王锦阳 |
地址: | 英国开*** | 国省代码: | 英国;GB |
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摘要: | 本发明涉及一种固态浸没透镜微影术。于一实施态样中,提供一种包含具有第一面和第二面之抗蚀膜的装置,其中,该第二面为第一面的相对面。将一个或多个固态浸没透镜设置于该抗蚀膜的第一面之上。于另一实施态样中,提供一种制造方法,包括形成抗蚀膜以及利用穿透过一个或多个固态浸没透镜的辐射使该抗蚀膜曝光。 | ||
搜索关键词: | 固态 浸没 透镜 微影术 | ||
【主权项】:
一种装置,包括:电磁辐射源(44);以及使电磁辐射的选择部分穿过的掩膜(72),该掩膜(72)包括可以穿透电磁辐射的板(78),该板(78)包含一个或多个固态浸没透镜(74,75,76)以及位于该板(78)上的不透光薄膜(80),该一个或多个固态浸没透镜(74,75,76)具有布置在集成电路中的晶体管结构和互联机路所欲的形状,该不透光薄膜(80)可以允许电磁辐穿透过该一个或多个固态浸没透镜(74,75,76),但防止电磁辐射穿透过至少一部分板(80)。
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