[发明专利]用于制备成像转印构件的成像表面的方法和成像转印构件有效
| 申请号： | 201110210788.5 | 申请日： | 2011-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN102416788A | 公开（公告）日： | 2012-04-18 |
| 发明（设计）人： | T·J·斯奈德;D·A·范考文伯格;J·P·舍思;P·J·麦克康维尔;B·比茨 | 申请（专利权）人： | 施乐公司 |
| 主分类号： | B41N3/03 | 分类号： | B41N3/03;B41N1/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 臧霁晨;高为 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供用于制备成像转印构件的成像表面的方法和成像转印构件。该用于制备印刷机中成像转印构件的成像表面的方法包括对所述成像表面提供表面粗糙度以在所述表面上产生具有尖锐特征的多个凹陷；将凹陷的成像表面暴露于酸洗液中足以明显减少所述成像表面上的所述尖锐特征的时间段。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制备 成像 构件 表面 方法 | ||
【主权项】：
一种用于制备印刷机中成像转印构件的成像表面的方法，所述方法包含：对所述成像表面提供表面粗糙度以在所述表面上产生具有尖锐特征的多个凹陷；将凹陷的成像表面暴露于酸洗液中足以明显减少所述成像表面上的所述尖锐特征的时间段。
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