[发明专利]采用纳米粒子提高AlGaN基探测器性能的方法无效
申请号: | 201110212296.X | 申请日: | 2011-07-27 |
公开(公告)号: | CN102263166A | 公开(公告)日: | 2011-11-30 |
发明(设计)人: | 黎大兵;孙晓娟;宋航;李志明;陈一仁;缪国庆;蒋红 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人: | 陶尊新 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 采用纳米粒子提高AlGaN基探测器性能的方法,涉及半导体技术领域,它解决了现有制备AlGaN探测器的方法无法实现AlGaN基材料中存在高密度的位错的问题,本发明方法为:在常规衬底上生长AlGaN基材料;然后在所述的AlGaN基材料表面制备纳米粒子;采用光刻技术在纳米粒子上制备光刻胶掩膜图形;采用真空蒸发方法在光刻胶掩膜图形上制备金属电极;采用Lift Off技术溶解四所述的光刻胶,电极退火,获得高性能的AlGaN基探测器。本发明所述方法为提高AlGaN探测器效率提供了有效途径。本发明工艺简单,成本低廉。 | ||
搜索关键词: | 采用 纳米 粒子 提高 algan 探测器 性能 方法 | ||
【主权项】:
采用纳米粒子提高AlGaN基探测器性能的方法,其特征是,该方法由以下步骤实现:步骤一、在常规衬底上生长AlGaN基材料;步骤二、在步骤一所述的AlGaN基材料表面制备纳米粒子;步骤三、采用光刻技术在步骤二所述的纳米粒子上制备光刻胶掩膜图形;步骤四、采用真空蒸发方法在步骤三所述的光刻胶掩膜图形上制备金属电极;步骤五、采用Lift Off方法溶解步骤四所述的光刻胶,电极退火,获得高性能的AlGaN基探测器。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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