[发明专利]采用纳米粒子提高AlGaN基探测器性能的方法无效

专利信息
申请号: 201110212296.X 申请日: 2011-07-27
公开(公告)号: CN102263166A 公开(公告)日: 2011-11-30
发明(设计)人: 黎大兵;孙晓娟;宋航;李志明;陈一仁;缪国庆;蒋红 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 长春菁华专利商标代理事务所 22210 代理人: 陶尊新
地址: 130033 吉*** 国省代码: 吉林;22
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 采用纳米粒子提高AlGaN基探测器性能的方法,涉及半导体技术领域,它解决了现有制备AlGaN探测器的方法无法实现AlGaN基材料中存在高密度的位错的问题,本发明方法为:在常规衬底上生长AlGaN基材料;然后在所述的AlGaN基材料表面制备纳米粒子;采用光刻技术在纳米粒子上制备光刻胶掩膜图形;采用真空蒸发方法在光刻胶掩膜图形上制备金属电极;采用Lift Off技术溶解四所述的光刻胶,电极退火,获得高性能的AlGaN基探测器。本发明所述方法为提高AlGaN探测器效率提供了有效途径。本发明工艺简单,成本低廉。
搜索关键词: 采用 纳米 粒子 提高 algan 探测器 性能 方法
【主权项】:
采用纳米粒子提高AlGaN基探测器性能的方法,其特征是,该方法由以下步骤实现:步骤一、在常规衬底上生长AlGaN基材料;步骤二、在步骤一所述的AlGaN基材料表面制备纳米粒子;步骤三、采用光刻技术在步骤二所述的纳米粒子上制备光刻胶掩膜图形;步骤四、采用真空蒸发方法在步骤三所述的光刻胶掩膜图形上制备金属电极;步骤五、采用Lift Off方法溶解步骤四所述的光刻胶,电极退火,获得高性能的AlGaN基探测器。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110212296.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top