[发明专利]试料检查装置以及试料检查方法无效

专利信息
申请号: 201110212728.7 申请日: 2011-07-27
公开(公告)号: CN102403247A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: 西萩一夫;钩正章;上田英雄;中庸行 申请(专利权)人: 株式会社堀场制作所
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;G01B15/02
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本京都市*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种试料检查装置以及试料检查方法,通过将多种计测方法加以组合,从而使得可检查的试料不受限制。试料检查装置具备入射部(11)、反射光受光部(12)以及分析部(13)(椭率计部)、X射线源(21)、荧光X射线检测部(22)以及分析部(23)(X射线测定部)、激光光源(31)、分束器(34)、拉曼散射光检测部(32)以及分析部(33)(拉曼散射光测定部)。能够使用与试料(6)相应的适当的方法来计测试料的厚度。而且,通过将椭圆偏光法以及荧光X射线分析加以组合,从而能够独立地计测试料(6)的厚度与折射率等的光学特性。而且,当试料(6)为多层试料时,能够利用适当的方法来检查各层。
搜索关键词: 检查 装置 以及 方法
【主权项】:
一种试料检查装置,其特征在于包括:椭率计部,向试料入射直线偏光,接收来自试料的反射光,对入射光与反射光之间的偏光的变化进行测定;X射线测定部,向试料照射X射线,对来自试料的X射线进行测定;以及分析部,根据所述椭率计部或所述X射线测定部的测定结果,进行用于求出试料的厚度的分析。
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