[发明专利]一种富集痕量速灭威的金属有机框架分子印迹聚合物的制备方法有效

专利信息
申请号: 201110212802.5 申请日: 2011-07-28
公开(公告)号: CN102898566A 公开(公告)日: 2013-01-30
发明(设计)人: 王硕;方国臻;钱坤;王俊平 申请(专利权)人: 天津科技大学
主分类号: C08F120/06 分类号: C08F120/06;C08J3/24;C08J9/26;B01J20/285;B01J20/30
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300222 天*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种富集痕量速灭威的金属有机框架材料分子印迹聚合物的制备方法,其主要的技术要点是以金属有机框架材料为支持体,以速灭威为模板分子,甲基丙烯酸为功能单体,四乙氧基硅烷为交联剂,乙腈为溶剂,利用包埋法合成对速灭威具有高选择性的吸附功能材料。本发明成本低廉,合成过程简单,反应条件容易控制,所制成的速灭威分子印迹聚合物可用于固相萃取富集与高效液相色谱联用,可以用于各种食品样品中痕量速灭威的分离富集。
搜索关键词: 一种 富集 痕量 速灭威 金属 有机 框架 分子 印迹 聚合物 制备 方法
【主权项】:
一种富集痕量速灭威的金属有机框架分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:(1)先加入金属有机框架材料MOF‑5,再加入溶剂乙腈和速灭威模板,充分搅拌使其完全溶解,然后加入甲基丙烯酸,充分搅拌1h;加入交联剂四乙氧基硅烷和催化剂乙酸溶液反应0.5h;通氮气10min,60℃水浴热聚合20h;(2)将上述聚合物粉碎,置于索氏萃取器中,加入270mL甲醇和30mL冰乙酸作萃取溶剂,连续萃取48h,至萃取液中无速灭威检测出为止,60℃真空干燥10h,得到速灭威金属有机框架分子印迹聚合物;
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