[发明专利]非晶硅太阳能电池生产中沉积光伏吸收层的工艺有效
申请号: | 201110214546.3 | 申请日: | 2011-07-28 |
公开(公告)号: | CN102315336A | 公开(公告)日: | 2012-01-11 |
发明(设计)人: | 李兆廷;林宏达;陈启聪;陈锦泓;王毓婷 | 申请(专利权)人: | 东旭集团有限公司;成都泰轶斯太阳能科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/20 | 分类号: | H01L31/20;C23C16/24;C23C16/52 |
代理公司: | 深圳市智科友专利商标事务所 44241 | 代理人: | 曲家彬 |
地址: | 050021 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 非晶硅太阳能电池生产中沉积光伏吸收层的工艺,包括借助等离子增强化学气相沉积室在玻璃衬底上依次沉积P层、i层和N层,关键是:所述的i层分两层制备,以硅烷和氢气作为反应气体,掺杂气体为TMB和磷烷,上述反应气体、TMB、及磷烷的体积百分比分别为:97.2~97.8%、1.8~2.1%、0.1~1%,步骤如下:设定沉积室中反应气体H2/SiH4的稀释比为(0.8~1.1)∶1,在P层上沉积厚度为120~150nm的第一i层;改变反应气体H2/SiH4的稀释比为(8~12)∶1,再在第一i层上沉积厚度为120~150nm的第二i层。本发明改善了非晶硅太阳能电池的光致衰退效应。 | ||
搜索关键词: | 非晶硅 太阳能电池 生产 沉积 吸收 工艺 | ||
【主权项】:
非晶硅太阳能电池生产中沉积光伏吸收层的工艺,包括借助等离子增强化学气相沉积室在玻璃衬底(1)上依次沉积P层(2)、i层和N层(5),其特征在于:所述的i层分两层制备,以硅烷和氢气作为反应气体,掺杂气体为TMB和磷烷,上述反应气体、TMB、及磷烷的体积百分比分别为:反应气体 97.2~97.8%TMB 1.8~2.1%磷烷 0.1~1%所述的工艺步骤中包括:A、设定沉积室中反应气体H2/SiH4的稀释比为(0.8~1.1)∶1,在P层(2)上沉积厚度为120~150nm的第一i层(3);B、改变反应气体H2/SiH4的稀释比为(8~12)∶1,再在第一i层(3)上沉积厚度为120~150nm的第二i层(4)。
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