[发明专利]混合式薄膜晶体管及其制造方法以及显示面板有效

专利信息
申请号: 201110215298.4 申请日: 2011-07-25
公开(公告)号: CN102280491A 公开(公告)日: 2011-12-14
发明(设计)人: 谢秀春;陈亦伟;邱大维;陈崇道 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/336;H01L27/32;G02F1/1362;G02F1/1368
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;王颖
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开一种混合式薄膜晶体管及其制造方法以及显示面板。混合式薄膜晶体管包括第一薄膜晶体管以及第二薄膜晶体管。所述第一薄膜晶体管包括第一栅极、第一源极、第一漏极以及第一半导体层,第一半导体层位于第一栅极以及第一源极与第一漏极之间,且第一半导体层包括结晶硅层。第二薄膜晶体管包括第二栅极、第二源极、第二漏极以及第二半导体层,第二半导体层位于第一栅极以及第一源极与第一漏极之间,且第二半导体层包括金属氧化物半导体材料。
搜索关键词: 混合式 薄膜晶体管 及其 制造 方法 以及 显示 面板
【主权项】:
一种混合式薄膜晶体管,其特征在于,包括:一第一薄膜晶体管与一第二薄膜晶体管;该第一薄膜晶体管,其包括:一第一栅极、一第一源极以及一第一漏极;以及一第一半导体层,该第一半导体层位于该第一栅极以及该第一源极与该第一漏极之间,其中该第一半导体层包括一结晶硅层;以及该第二薄膜晶体管,其包括:一第二栅极、一第二源极以及一第二漏极;以及一第二半导体层,该第二半导体层位于该第一栅极以及该第一源极与该第一漏极之间,其中该第二半导体层包括一金属氧化物半导体材料。
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