[发明专利]纳秒激光刻蚀亚波长周期性条纹的方法无效

专利信息
申请号: 201110215663.1 申请日: 2011-07-29
公开(公告)号: CN102416527A 公开(公告)日: 2012-04-18
发明(设计)人: 夏志林 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: B23K26/00 分类号: B23K26/00;G02B5/18;C03C17/23
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 张安国;伍见
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了纳秒激光刻蚀亚波长周期性条纹结构的方法,刻蚀试样为采用溶胶-凝胶法镀制了氧化硅薄膜的光学玻璃;氧化硅溶胶采用碱催化方法所获得,采用提拉镀膜法在光学玻璃表面沉积薄膜;采用纳秒激光刻蚀经过镀制了氧化硅薄膜的光学玻璃的样品,可以在光学玻璃表面得到亚波长周期性条纹结构。本发明扩展了纳秒激光在纳米显微加工领域的应用,得到的亚波长条纹周期可调,深度可控。
搜索关键词: 激光 刻蚀 波长 周期性 条纹 方法
【主权项】:
纳秒激光刻蚀亚波长周期性条纹的方法,其特征在于:其纳秒激光刻蚀采用溶胶‑凝胶法沉积了氧化硅薄膜的光学玻璃。
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