[发明专利]纳秒激光刻蚀亚波长周期性条纹的方法无效
申请号: | 201110215663.1 | 申请日: | 2011-07-29 |
公开(公告)号: | CN102416527A | 公开(公告)日: | 2012-04-18 |
发明(设计)人: | 夏志林 | 申请(专利权)人: | 武汉理工大学 |
主分类号: | B23K26/00 | 分类号: | B23K26/00;G02B5/18;C03C17/23 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 张安国;伍见 |
地址: | 430070 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供了纳秒激光刻蚀亚波长周期性条纹结构的方法,刻蚀试样为采用溶胶-凝胶法镀制了氧化硅薄膜的光学玻璃;氧化硅溶胶采用碱催化方法所获得,采用提拉镀膜法在光学玻璃表面沉积薄膜;采用纳秒激光刻蚀经过镀制了氧化硅薄膜的光学玻璃的样品,可以在光学玻璃表面得到亚波长周期性条纹结构。本发明扩展了纳秒激光在纳米显微加工领域的应用,得到的亚波长条纹周期可调,深度可控。 | ||
搜索关键词: | 激光 刻蚀 波长 周期性 条纹 方法 | ||
【主权项】:
纳秒激光刻蚀亚波长周期性条纹的方法,其特征在于:其纳秒激光刻蚀采用溶胶‑凝胶法沉积了氧化硅薄膜的光学玻璃。
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