[发明专利]图形化基板的制造方法无效
申请号: | 201110219382.3 | 申请日: | 2011-07-28 |
公开(公告)号: | CN102610710A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 梁文灯 | 申请(专利权)人: | 隆达电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 冯志云;邢雪红 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种图形化基板的制造方法,包含下述步骤:(a)提供基板,基板具有上表面;(b)于基板的上表面沉积金属层(c)升高温度至使金属层聚集形成多个金属粒分布于上表面;(d)通入反应气体,使多个金属粒与反应气体化合,于上表面形成图形化结构。本发明利用成长的方式制作蓝宝石基板,相较于现有以蚀刻的方式制作蓝宝石基板,可省却不少繁琐步骤及仅须使用最基本的机台设备,即可制作出纳米等级的图形化结构于蓝宝石基板上。 | ||
搜索关键词: | 图形 化基板 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种图形化基板的制造方法,其特征在于包含下列步骤:(a)提供一基板,该基板具有一上表面;(b)于该基板的该上表面沉积一金属层;(c)升高温度至使该金属层聚集形成多个金属粒分布于上表面,同时使该基板的部分该上表面未被所述多个金属粒遮住而露出;以及(d)通入反应气体,使所述多个金属粒与该反应气体化合,于该上表面形成图形化结构。
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