[发明专利]一种分布式曝光剂量控制系统及方法有效
| 申请号： | 201110222156.0 | 申请日： | 2011-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN102914945A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 孙智超;罗闻;张曦 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种分布式曝光剂量控制系统，包括激光器单元，可变衰减器，光路传输单元，光路引导单元及能量传感器，该激光器单元产生一激光脉冲经过该可变衰减器、光路传输单元及光路引导单元后由该能量传感器测量实际接收的激光脉冲，其特征在于，该激光器单元，可变衰减器，光路传输单元，光路引导单元及能量传感器分别采用独立校正模型获得不同单元的补偿因子，将该实际接收的激光脉冲和相关参数根据该不同单元的校准因子进行前馈补偿后获得一脉冲能量值，对该脉冲能量值通过一统一补偿控制单元输出后进行反馈补偿以获得最佳曝光剂量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 分布式 曝光 剂量 控制系统 方法 | ||
【主权项】：
一种分布式曝光剂量控制系统，包括激光器单元，可变衰减器、光路传输单元，光路引导单元及能量传感器，所述激光器单元产生一激光脉冲经过所述可变衰减器、光路传输单元及光路引导单元后由所述能量传感器测量实际接收的激光脉冲，其特征在于，所述激光器单元，可变衰减器，光路传输单元，光路引导单元及能量传感器分别采用独立校正模型获得不同单元的补偿因子，将所述实际接收的激光脉冲和参数组根据所述不同单元的校准因子进行前馈补偿后获得一脉冲能量值，所述脉冲能量值通过一统一补偿控制单元输出后进行反馈补偿以获得曝光剂量。
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