[发明专利]场效应气体传感器、用于制造场效应气体传感器的方法和用于探测气体的方法有效

专利信息
申请号: 201110226985.6 申请日: 2011-08-09
公开(公告)号: CN102375015A 公开(公告)日: 2012-03-14
发明(设计)人: R.菲克斯;D.孔茨;A.克劳斯;A.马丁;D.卡尔歇尔 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: G01N27/414 分类号: G01N27/414
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张涛;李家麟
地址: 德国斯*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及场效应气体传感器、用于制造场效应气体传感器的方法和用于探测气体的方法。提出了一种场效应气体传感器(100,200,250,300,400,500,600,1020),其具有对于至少一种预先确定的气体可透过的多孔电极层(110,310,410,510,610)。此外,该场效应气体传感器包括至少一个与电极层邻接的介电体层(120、210、220、230、240、320、430、520、540、620、660),所述介电体层具有不同于SiO2的材料。最后,该场效应气体传感器包括由金属或半导体材料构成的后部电极(150,330,420,440,530,640),其中后部电极在与电极层对置的那侧上与所述介电体层邻接。
搜索关键词: 场效应 气体 传感器 用于 制造 方法 探测
【主权项】:
一种场效应气体传感器(100,200,250,300,400,500,600,1020),具有如下特征:对于至少一种预先确定的气体可透过的多孔电极层(110,310,410,510,610);至少一个与电极层邻接的介电体层(120、210、220、230、240、320、430、520、540、620、660),所述介电体层具有不同于SiO2和Si3N4的材料;以及由金属或半导体材料构成的后部电极(150,330,420,440,530,640),其中后部电极在与电极层对置的那侧上与所述介电体层邻接。
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