[发明专利]一种基于紫外LED光源的光刻机无效
| 申请号： | 201110230598.X | 申请日： | 2011-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN102289155A | 公开（公告）日： | 2011-12-21 |
| 发明（设计）人： | 王向贤;明海;张斗国;胡继刚;陈鲁;汪波;陈漪恺 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 李新华;卢纪 |
| 地址： | 230026 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公布了一种基于紫外LED光源的光刻机，其结构包括实现光束均匀辐照曝光的紫外LED光源光学系统，控制曝光时间和相对辐照强度的发光控制器，光栏，光刻掩模板和光刻基片，该光刻机可采用接触式或接近式曝光。本发明结构简单，与传统的基于汞灯光源的光刻机系统比较，本发明使用紫外LED光源，曝光时间和曝光辐照强度通过对光源系统本身的控制完成，不需要额外加入滤光片和光电快门。该光刻机是一种结构简单、运行稳定、寿命长、散热小、高效、节能、环保的光刻系统。本发明可用于微电子、微纳光子器件制备等微纳加工领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 紫外 led 光源 光刻 | ||
【主权项】：
一种基于紫外LED光源的光刻机，其特征在于：其包括：发光控制器、紫外LED光源光学系统、光栏、掩模板、光刻胶和光刻胶衬底基片；其中，所述发光控制器，用于控制曝光时间和相对辐照强度，并且其曝光方式采用接触式或接近式；所述紫外LED光源光学系统，通过对紫外LED光源和透镜空间分布的光学设计，或仅通过对紫外LED光源空间分布的光学设计，实现紫外LED光源所发紫外光束在距该紫外LED光源一定距离即工作距离处的曝光面的均匀辐照曝光；所述光栏，用于控制曝光面积以及消除边缘杂散光对样品的辐照。
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