[发明专利]微透镜阵列制造方法、固态图像传感器及其制造方法有效
| 申请号： | 201110235097.0 | 申请日： | 2011-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN102375334A | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 栗原政树 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G02B3/00;H01L27/146 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李颖 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及微透镜阵列制造方法、固态图像传感器及其制造方法。所述微透镜阵列制造方法包括：在包含多个光接收部分的结构上形成抗蚀剂膜；使用其中布置有用于形成多个微透镜的多个透镜图案的光掩模来将所述抗蚀剂膜曝光；通过显影曝光后的抗蚀剂膜来形成抗蚀剂图案；以及通过使所述抗蚀剂图案退火来形成所述多个微透镜，其中，所述多个透镜图案包含具有相互不同的曝光光透射率分布的透镜图案。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 阵列 制造 方法 固态 图像传感器 及其 | ||
【主权项】：
一种制造微透镜阵列的方法，所述方法包括：在包含多个光接收部分的结构上形成抗蚀剂膜；使用光掩模将所述抗蚀剂膜曝光，其中，在所述光掩模中布置有用于形成多个微透镜的多个透镜图案；通过显影曝光后的抗蚀剂膜来形成抗蚀剂图案；以及通过使所述抗蚀剂图案退火来形成所述多个微透镜，其中，所述多个透镜图案包含具有相互不同的曝光光透射率分布的透镜图案。
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