[发明专利]激光表面淬火淬硬层深度均匀性控制方法及其装置有效

专利信息
申请号: 201110235185.0 申请日: 2011-08-16
公开(公告)号: CN102358914A 公开(公告)日: 2012-02-22
发明(设计)人: 李铸国;黄坚;张轲;李瑞峰;张悦 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: C21D1/09 分类号: C21D1/09;G05D23/19
代理公司: 上海交达专利事务所 31201 代理人: 王毓理
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种材料表面处理技术领域的激光表面淬火淬硬层深度均匀性控制方法及其装置,通过红外增强CCD摄像机拍摄淬火过程中加热区域的温度场图像,根据温度场图像分析得到实际加热峰值温度,并通过闭环控制反馈调控激光功率将实际加热峰值温度调整至激光表面淬火前设定的加热峰值温度,当设定的加热峰值温度与激光的移动速度为定值时,实现淬硬层深度在金属表面均匀一致。本发明使沿厚度方向温度超过相变点达到奥氏体状态并快速冷却形成马氏体淬硬层的区域的深度在金属表面每一点相当,并且激光表面淬火时既容易调控淬硬层深度,又保证金属表面不出现熔凝层或者过热层,且大大改善由于冷热状态不同引起的淬硬层深度在扫描方向上的不均匀性问题。
搜索关键词: 激光 表面 淬火 淬硬层 深度 均匀 控制 方法 及其 装置
【主权项】:
一种激光表面淬火淬硬层深度均匀性控制方法,其特征在于,通过红外增强CCD摄像机拍摄淬火过程中加热区域的温度场图像,根据温度场图像分析得到实际加热峰值温度,并通过闭环控制反馈调控激光功率将实际加热峰值温度调整至激光表面淬火前设定的加热峰值温度,当设定的加热峰值温度与激光的移动速度为定值时,实现淬硬层深度在金属表面均匀一致。
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