[发明专利]改进双重通孔刻蚀停止层交叠区通孔刻蚀的方法

摘要

本发明改进双重通孔刻蚀停止层交叠区通孔刻蚀的方法解决了现有技术中形成在交叠区域上的通孔无法完全打开的问题，将原有工艺中的覆盖在衬底上的二氧化硅保护膜层替换为碳化硅保护膜，并分别采用不同选择比的气体依次对覆盖在衬底上的多层应力层及保护层进行刻蚀，使得普通区域与交叠区域的通孔都能够完美打开。

主权项

一种改进双重通孔刻蚀停止层交叠区通孔刻蚀的方法，在一衬底上形成至少一第一晶体管和至少一第二晶体管，且在第一晶体管与第二晶体管之间形成浅沟槽区域；在衬底上依次淀积一层第一保护薄膜层和一第一应力膜，第一保护膜层和第一应力膜将第一晶体管、第二晶体管、浅沟槽区域同时覆盖；刻蚀去除覆盖在第二晶体管区域上方的第一应力膜层，将部分覆盖在浅沟槽区域上的应力膜保留；依次淀积一第二保护薄膜层和一第二应力膜层，使第二保护膜层及第二应力膜层覆盖在露出的第一保护膜层及未被刻蚀掉的第一应力膜层的上方，其特征在于，包括以下步骤：    刻蚀去除覆盖在第一晶体管区域上方的第二应力膜层，保留部分位于浅沟槽区域上方且位于第一应力膜层上方的部分第二应力膜层，使第一应力膜层与第二应力膜层具有一位于浅沟槽区域上方的交叠区域，浅沟槽区域上方形成有多晶硅，使交叠区域位于多晶硅区域的上方；    淀积一层层间绝缘介质层，层间绝缘介质层覆盖在残留的第二应力膜层及露出的第二保护膜层的上方；    在浅沟槽区域的上方进行刻蚀，采用不同选择比的刻蚀方法分别打开叠加区域上方的层间绝缘介质层、第二应力膜层、第二保护膜层、第一应力膜层、第一保护膜层形成止于多晶硅的第一通孔。