[发明专利]一种熔盐提拉法生长KTP优质单晶的方法无效
申请号: | 201110239820.2 | 申请日: | 2011-08-21 |
公开(公告)号: | CN102465332A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | 王昌运;陈伟;吴少凡;郑熠 | 申请(专利权)人: | 中国科学院福建物质结构研究所 |
主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00;C30B9/12;C30B29/22 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 350002 *** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种熔盐提拉法生长KTP优质单晶的方法。本发明的核心内容是采用磷酸二氢钾、磷酸氢二钾和二氧化钛为原料,利用K6P4O13为助熔剂生长,KTP:K6P4O13=0.5g/1g,转速15r/min,拉速0.2mm/day~2mm/day,降温速率0.2℃/day~2℃/day。本发明具有简单、有效缩短生长周期、节约成本、高效等特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 熔盐提拉法 生长 ktp 优质 方法 | ||
【主权项】:
一种熔盐提拉法生长KTP优质单晶的方法,其特征在于采用磷酸二氢钾、磷酸氢二钾和二氧化钛为原料,利用K6P4O13为助熔剂生长,使用熔盐结合提拉的方法生长KTP单晶。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院福建物质结构研究所,未经中国科学院福建物质结构研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110239820.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种防止平板显示器烧屏的方法
- 下一篇:风扇固定装置